I requisiti per gli obiettivi di molibdeno sono molto più rigidi di quelli delle industrie dei materiali convenzionali. Questi requisiti richiedono aspetti tra cui dimensioni, planarità, purezza, contenuto di impurità, densità, livelli N/O/C/S, dimensioni del grano e controllo dei difetti. I requisiti ancora più rigidi o specializzati includono rugosità superficiale, valori di resistenza, uniformità di dimensioni del grano, composizione e microstruttura, contenuto e dimensioni di materia straniera (ossido), permeabilità magnetica, altissima densità, grani ultra fini, tra gli altri.
Il rivestimento sputtering del Magnetron è una tecnica di deposizione del vapore fisico di nuova concezione che utilizza un sistema di pistole elettroniche per mettere a fuoco ed emissione di elettroni sul materiale placcato. Seguendo il principio di scambio dello momentum, gli atomee vengono estrusi dalla superficie target con energia ad alta cinetica e si depositano sul substrato per formare un film. Il materiale utilizzato per il processo di placcatura è chiamato bersaglio sputtering, che può essere realizzato con materiali diversi come metalli, leghe e composti ceramici.
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