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Bersaglio in tungsteno

L'obiettivo in tungsteno è un materiale essenziale utilizzato nella produzione di film sottili, come per la produzione di semiconduttori, display a schermo piatto e pannelli solari. Questi bersagli in tungsteno sono caratterizzati da una loro elevata densità, punto di fusione elevato e resistenza alla corrosione, che rende loro un materiale affidabile per processi altamente difficili. Gli obiettivi in tungsteno sono progettati ad alta precisione per soddisfare i requisiti rigorosi del processo di produzione e sono disponibili in varie forme e dimensioni.

Bersaglio in tungsteno

Principio operativo del bersaglio in tungsteno

Gli obiettivi in tungsteno vengono utilizzati principalmente nelle tecniche di deposizione fisica del vapore (PVD), come lo sputtering, per il deposito di film sottili su varie superfici. In sputtering, gli atomee di gas ionizzati vengono accelerati verso l'obiettivo di tungsteno, riducendo l'emissione di atomee dalla superficie target. Questi atomee vengono quindi depositati su un substrato, formando un film sottile.


Gli obiettivi in tungsteno sono dotati di punti di fusione elevati e di eccezionale resistenza agli shock termici, rendili adatti per applicazioni di sputtering ad alta potenza. Sputtering con un bersaglio in tungsteno è comunemente usato per produrre film duri e resistenti all'usura, come quelli utilizzati nella produzione di utensili da taglio e superfici resistenti all'usura.


Oltre a questo, gli obiettivi In tungsteno vengono utilizzati nella produzione di materiali semiconduttori. Il tungsteno è un eccellente conduttore di calore ed elettricità, che lo rende ideale per l'uso nell'industria della microelettronica. L'alta purezza e la qualità dei bersagli in tungsteno sono essenziali per ottenere rivestimenti a film sottile di alta qualità e uniformi con funzionalità specifiche.


Nel complesso, il funzionamento efficiente delle tecniche PVD è altamente dipendente dalla qualità e dalla purezza del materiale target in tungsteno e dai parametri di elaborazione applicati.


Bersaglio in tungsteno

Modifica della superficie del bersaglio in tungsteno

Gli obiettivi in tungsteno sono comunemente utilizzati nelle tecniche di lavorazione dei materiali a base di plasma, come lo sputtering e l'impianto di ioni, grazie alle loro eccellenti proprietà termiche e meccaniche. L'alta energia superficiale dei bersagli in tungsteno può portare a problemi con adesione e accumulo di materiale.


Per ridurre questi problemi, è possibile utilizzare varie tecniche di modifica della superficie per modificare le proprietà superficiali dei bersagli in tungsteno. Ad esempio, la superficie dei bersagli in tungsteno può essere trattata con metodi chimici o fisici per migliorare la bagnabilità della superficie, ridurre l'adesione e prevenire l'accumulo di materiale.


Una tale tecnica è la deposizione di un rivestimento a bassa superficie-energia sulla superficie del bersaglio in tungsteno. Questo può essere ottenuto utilizzando vari metodi come la deposizione di vapore chimico potenziato al plasma (PECVD) o la deposizione di vapore fisico (PVD). Il rivestimento energetico a bassa superficie riduce l'energia superficiale dei bersagli in tungsteno e aiuta così a ridurre l'adesione dei materiali durante la lavorazione del plasma.


Altra tecnica è la testurizzazione superficiale del bersaglio in tungsteno, attraverso tecniche come ablazione laser o pallinatura. La testurizzazione crea una superficie ruvida che migliora la capacità di trama della superficie riducendo l'area di contatto tra la superficie target e i materiali, riducendo così l'adesione del materiale.


Le tecniche di modifica superficiale offrono un modo promettente per migliorare le prestazioni e la durata della vita degli obiettivi in tungsteno, che sono molto importanti nelle tecniche di lavorazione dei materiali a base di plasma.

Bersaglio in tungsteno

Applicazioni di bersagli in tungsteno

Gli obiettivi in tungsteno hanno diverse applicazioni nella deposizione di film sottili e le loro diverse proprietà le rendono un materiale importante in molte applicazioni industriali. Nel settore dell'elettronica, gli obiettivi In tungsteno vengono utilizzati per sputtering di film sottili su vari substrati, come per display a schermo piatto e dispositivi semiconduttori.


Nella produzione di pannelli solari, gli obiettivi In tungsteno vengono utilizzati per il deposito di film sottili di telluride di cadmio (CdTe) e seleniuro di gallio di rame indio (CIGS) sulla superficie delle celle solari, miglioramento della loro efficienza.


Gli obiettivi in tungsteno vengono utilizzati anche nella produzione di superfici dure, come rivestimenti resistenti all'usura per utensili da taglio e cuscinetti. Vengono utilizzati in applicazioni high-tech, come la produzione di tubi a raggi X e strumenti a fascio elettronico.


Gli obiettivi in tungsteno sono utilizzati anche nell'industria aerospaziale, come nella produzione di pale a turbina per turbine a gas e turbine per la generazione di energia. Sono utilizzati anche nell'industria medica, come nei tubi a raggi x e nella schermatura delle radiazioni.


Nel complesso, il punto di fusione, la densità, la resistenza alla corrosione e la stabilità termica degli obiettivi in tungsteno rendono loro un materiale adatto in diversi campi che richiedono componenti affidabili e durevoli.


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